4月24日，尼康发表声明称，阿斯麦及其光学元件供应商卡尔蔡司公司（Carl Zeiss）在阿斯麦的光刻系统中使用了尼康的专利技术。

利用液体介质代替最终透镜和晶体表面之间空气缝隙的浸润式光刻技术被用于集成电路制造中。

尼康表示，浸润式光刻技术对于生产智能手机、存储芯片和其他产品所使用的半导体至关重要。

声明称，阿斯麦和尼康是世界上唯一制造并出售浸润式光刻系统的公司。

声明补充道：“尼康已经与阿斯麦和卡尔蔡司公司进行会面，旨在解决这些问题，但是在经验丰富的调解员的指导下，它们也未达成和解。”

尼康表示，阿斯麦和卡尔蔡司“继续未经授权”使用尼康的专利技术，使得尼康不得不起诉它们以行使其合法权利。

尼康向荷兰海牙地区法院对阿斯麦提起11起专利侵权诉讼，向日本东京地区法院对阿斯麦提起诉讼并对德国曼海姆的卡尔蔡司提起诉讼。

尼康的总裁及代表董事牛田一雄（Kazuo Ushida）说：“我们坚信阿斯麦未经授权使用尼康包含浸润式光刻技术在内的最新科技专利，这才使得阿斯麦扩大其光刻业务。”

尼康正在寻求禁令以禁止阿斯麦和卡尔蔡司出售和分销这些浸润式光刻系统，并寻求损害赔偿。

之前尼康在美国对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼，并于2004年达成和解。

尼康与阿斯麦和卡尔蔡司签订了交叉许可协议，其中一些早期的专利被永久许可，较新的一些专利的许可日期截止到2009年12月31日。

阿斯麦的总裁兼首席执行官皮特．韦尼克（Peter Wennink）说：“尼康的起诉是毫无根据、没有必要的，并且为半导体行业带来很多不确定性。”

他补充道，在过去的几年中，阿斯麦多次尝试与尼康进行谈判以延长其交叉许可协议。

“我们为尼康没有认真谈判而是采取法律行动感到遗憾。这种不必要的专利诉讼分散了人们对于真正重要的事情的注意力，即推动有利于芯片制造者的技术的发展。我们应该在市场上竞争，而不是在法庭上。”（编译自worldipreview.com）