受保护的条件
根据匈牙利《集成电路保护法》第1条,集成电路布图设计权仅保护原创的微电子半导体产品的布图设计(拓扑图)。
集成电路布图,是指多个元件(其中至少有一个是有源元件)以及全部或部分互连的微电子半导体产品的三维配置;或者是为制造半导体产品而准备的三维配置。
受保护的集成电路布图设计必须具备原创性。如果布图设计是其创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时在布图设计创作者和集成电路制造者中不是常规的设计,那么该设计具有原创性。
由普通部件组成的原创性布图设计,可以获得保护。
宽限期
如果在向HIPO提交集成电路布图设计保护申请之前,该布图设计已经在任何一个国家进行了商业性利用,那么申请必须在首次商业利用之日起2年内提出。
保护的范围
根据匈牙利《集成电路保护法》第7条,集成电路布图设计权利持有人拥有使用或授权他人用其布图设计的专有权。
利用,指以商业为目的的再生产,无论是生产包含该布图设计的半导体产品,或生产以其他方式利用该布图设计的产品;以及以商业利用为目的,进口或者销售该布图设计产品或包含该布图设计的半导体产品。
保护的范围应根据申请中布图设计的图示确定。保护覆盖布图设计的原创部分,不论它可以单独利用,或者与整个布图设计形成不可分割的整体。
但是,保护不能覆盖以下各项:
● 布图设计所依据的概念、程序及系统,或存储在半导体产品中的任何信息;
● 以分析、评估或教学为目的复制布图设计,以及在此基础上的创新;
● 由第三方独立创作的相同布图设计;
● 权利持有人自行或者在其许可下,在欧洲经济区内销售该布图设计产品或包含该布图设计的半导体产品。
如果某人在以商业目的进口或销售半导体产品时不知道或者没有理由相信其中包含被侵权的集成电路布图设计,其行为不应视为违法。但是,自该人知道所销售产品侵权之日起,他仅可在市场上出售现有库存或订购导致的库存,并应按照权利持有人通常收取的许可费向其支付费用。
更多内容,可参见HIPO网站。